本文標(biāo)題："不同的顯微微觀測(cè)量技術(shù)在工業(yè)制造的應(yīng)用簡(jiǎn)介"
發(fā)布者：yiyi ------ 分類(lèi): 行業(yè)動(dòng)態(tài) ------
人瀏覽過(guò)-----時(shí)間：2015-6-28 18:43:36
不同的顯微微觀測(cè)量技術(shù)在工業(yè)制造的應(yīng)用簡(jiǎn)介
如果能保證形成和利用參考光波的元件穩(wěn)定，那么第一個(gè)條
件比較容易做到。必須把照像底版放置到，在它上面進(jìn)行記錄全
息圖時(shí)的位置上，才能保證第二個(gè)條件。
在不同的時(shí)間以真實(shí)比例進(jìn)行的干涉測(cè)量，可以觀察并不間
斷地記錄(例如， 用顯微攝影機(jī))受動(dòng)力載荷而變形的過(guò)程；可
以實(shí)現(xiàn)隨機(jī)檢驗(yàn)，并將各種透明物體和鏡象眨射物體的廢品挑出
。這樣便解決了用干涉圖象測(cè)定零級(jí)條紋和變形變化的規(guī)律的困
難。一個(gè)全息圖可以記錄許多各種相位的和發(fā)散的反射物體的干
涉圖，這樣可以加速檢驗(yàn)過(guò)程。為此，必需有專(zhuān)門(mén)的裝置，使全
息閡億曝光的位置上進(jìn)行顯影，或是精確地安裝處理后的全啟、
圖。
兩次曝光的全息干涉測(cè)量技術(shù)，就是全息圖在顯影處理之前
進(jìn)行兩次曝光：一次在表面原始狀態(tài)時(shí)曝光；另一次在表面受到
變形后曝光。這兩次曝光用同樣的參考光波。這種方法不會(huì)產(chǎn)生
再現(xiàn)光波與物體光波重合的問(wèn)題。全息圖兩次曝光結(jié)束后，無(wú)論
是物體本身，還是全息照像裝置的光學(xué)元件就都不很重要了。無(wú)
論是顯示表面原始狀態(tài)的比較光波，還是相當(dāng)于變化了的表面光
波， 用與原始參考光波相仿的光波照射全息圖時(shí)，都可以同時(shí)
使
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