穿透式焦散為一基本的焦散術(shù)之光學(xué)架設(shè)。把實驗用的試片放置在雷射與空間濾波器之后，并把空間濾波器后聚焦之雷射光點打到試片的裂縫頂端，試片可以底片夾當(dāng)作施力架，輕微施力，從屏幕上看試片的影像，可以得到裂縫頂端之陰影因施力變化的影像。裂縫頂端之陰影會隨施力越大而越大，這就是因為裂縫尖端附近的變形區(qū)，其厚度及折射率變化有不連續(xù)的現(xiàn)象所引起。

 

　　在實際實驗中，若光的入射角越小，則實驗誤差越小，屏幕上的影像越?jīng)]有扭曲，則實驗誤差越小。因此整個光場必須很小心的架設(shè)才行。甚至試片的安裝也得謹(jǐn)慎，先用施力架上端的夾頭夾住試片，然后再以施力架下端的夾頭夾住試片。

 

 

反射式焦散術(shù)的光學(xué)架設(shè)

 

　　為反射式焦散術(shù)的光學(xué)架設(shè)。反射式焦散術(shù)的技術(shù)比起穿透式焦散，可以看得出其信號較明顯，并且多了其他能夠測量應(yīng)力變化的訊息。把試片放置在雷射、空間濾波器及兩個透鏡之后，并把空間濾波器后聚焦之雷射光用兩個透鏡形成平行光后聚焦，將聚焦之光束打到試片的裂縫頂端再反射至屏幕上，試片輕微施力，從屏幕上看試片的影像除了可以得到裂縫頂端因施力變化的陰影，在外圍仍有一圈反射式焦散。裂縫頂端之陰影及反射式焦散會隨施力越大而越大。另外在反射式焦散之外尚有因試片的前后反射面引起干涉的條紋，這些干涉的條紋也會隨施力變化越大而變化率越大[15]。而這些干涉的條紋變化率越大的地方，也是應(yīng)變率最大的地方，通常也就是裂縫尖端的部位。